해피레포트 - [레포트] 이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화)jo

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기타 [레포트] 이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화)jo 이온침탄과_이온질화_및_표면_경화(질화)jo.hwp 등록인 konggong12s 등록/수정일 09.01.28 / 09.01.28 문서분량 6 페이지 다운로드 0 구매평가 판매가격 3,000원

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이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화) ƒ절. 이온침탄 ƒ. 이온침탄이란 이온침탄은 플라즈마 침탄이라고도 하며, 약 900이상의 고온이 필요하기 때문에 외부 히터로서 가열된다. 이 방법은 처리할 부품을 진공로에 장입하고 탄화수소 계 가스를 감압 분위기 중에서 가열해서, 음극에 놓여 있는 처리물과 전극 사이에 높은 전압을 걸어 글로우 방전이 생기게 하여 플라즈마를 발생시킨다. 이때 글로우 방전에 의해 분위기 중의 탄소는 이온화되면서 큰 운동 에너지를 가진 이온([C]+)으로 되며, 이 탄소 이온이 처리물 표면에 충돌하여 내부로 침투하게 되면 침탄이 되는 것이다. 최근에는 반도체 제조 기술에 이온 주입이 응용되고 있다. 이처럼 플라즈마의 이용 분야는 무한한 가능성이 있다. „. 이온침탄의 특징 ① 장치 및 탄소농도 관리가 간편하다. ② 전처리 및 침탄 방지가 간단하고 표면이 광택을 갖는다. ③ 침탄 속도가 빠르고 침탄 효율이 높다. ④ 고탄소 및 복합 침탄이 가능하다. ⑤ 경제적이며, 환경이 개선된다. ⑥ 탈탄 및 입계 산화층의 형성을 방지할 수 있다. ⑦ 변형의 발생이 적고 침탄층이 균일하다. …. 이온침탄의 적용사례

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